Zeiss yöneticisi, yaptırımların Çin’in EUV açığını hızla kapatabileceği uyarısında bulundu

Zeiss’ın yarı iletken işinin CEO’su Frank Rohmund, Çin’in mevcut Batı çip üretim teknolojisinin yaklaşık 14 ila 15 yıl gerisinde olabileceğini söyledi. Ayrıca Çin’e yönelik kısıtlamaların ülkenin yenilik hızını artırarak aradaki farkı daha hızlı kapatmasına yardımcı olabileceği uyarısında bulundu.

Rohmund bu açıklamaları, Tayvan’daki SEMICON konferansı sırasında Bloomberg’e yaptı. Açıklamalar, EUV çip teknolojisi ile Çin’in derin ultraviyole (DUV) litografi alanındaki ilerlemesiyle ilgiliydi.

Yönetici, Çin’in DUV litografisindeki ilerlemesinin Çin dışındaki teknolojiyle karşılaştırılmadan önce çeşitli ölçütler üzerinden değerlendirilmesi gerektiğini söyledi. Çin’deki litografi gelişmeleri, Batı’nın teknoloji ihracatına yönelik kısıtlamaları nedeniyle yoğun biçimde inceleniyor.

Alman lens üreticisi Zeiss’ın yarı iletken bölümü, çip üretiminde kullanılan ekipmanları sağlıyor. Rohmund’ın değerlendirmesi olası bir teknoloji farkına işaret ederken yaptırımların ve diğer kısıtlamaların Çin’in ilerleme hızını etkileyebileceği uyarısını da içeriyor.