Un ejecutivo de Zeiss advierte de que las sanciones podrían reducir la brecha de China en EUV

Frank Rohmund, director ejecutivo del negocio de semiconductores de Zeiss, afirmó que China podría estar aproximadamente entre 14 y 15 años por detrás de la tecnología occidental actual para fabricar chips. También advirtió de que las restricciones contra China podrían acelerar la innovación del país y ayudarle a reducir la brecha con mayor rapidez.

Rohmund hizo estas declaraciones a Bloomberg durante la conferencia SEMICON en Taiwán. Sus comentarios se referían a la tecnología de chips basada en ultravioleta extremo (EUV) y a los avances de China en litografía ultravioleta profunda (DUV).

El ejecutivo señaló que los avances de China en litografía DUV deben evaluarse según varios parámetros antes de compararlos con tecnología no china. Los avances de la litografía china reciben un intenso escrutinio debido a las restricciones occidentales a las exportaciones de tecnología.

Zeiss es un fabricante alemán de lentes cuya división de semiconductores suministra equipos utilizados en la producción de chips. La evaluación de Rohmund describe una posible brecha tecnológica y advierte al mismo tiempo de que las sanciones y otras restricciones podrían influir en el ritmo de progreso de China.