Çinli Girişim EUV Işık Kaynağı Prototipini Tanıttı; Seri Üretime Yıllar Var

Çinli teknoloji girişimi Langdao Silex, Şanghay'daki 26. China International Industry Fair'de bir EUV ışık kaynağı prototipi tanıttı. Şirket cihaza FlintNano LPP-OXXO adını veriyor.

EUV ışık kaynakları, aşırı ultraviyole litografinin temel bileşenlerinden biridir. Langdao Silex, prototipin temel bileşenlerinin çoğunu bağımsız olarak geliştirdiğini ve yerlilik oranının yaklaşık %90'a ulaştığını söylüyor.

Tanıtım, Çin'in bu alanda tekel sahibi olarak tanımlanan Hollandalı ASML'nin yerini almaya hazır olduğunu göstermiyor. Kaynak habere göre seri üretimin 3–5 yıl daha başlaması beklenmiyor; haber bu tahmini iyimser olabilecek bir öngörü olarak nitelendiriyor. Haberde ayrıca ASML'nin ABD ticaret kısıtlamalarıyla karşı karşıya olduğu belirtiliyor.

Kaynak haber, prototipin teknik performansına ilişkin rakamlar veya ticari kullanıma hazır olduğuna dair kanıt sunmuyor. Bu nedenle duyuru bir geliştirme aşamasına işaret ediyor; zaman çizelgesi ve olası sonuçları ise belirsizliğini koruyor.