Startup china presenta un prototipo de fuente de luz EUV, pero la producción en masa tardará años

La startup tecnológica china Langdao Silex presentó un prototipo de fuente de luz EUV en la 26.ª China International Industry Fair, celebrada en Shanghái. La empresa llama al dispositivo FlintNano LPP-OXXO.

Las fuentes de luz EUV son un componente esencial de la litografía ultravioleta extrema. Langdao Silex afirma que desarrolló de forma independiente la mayoría de los componentes principales del prototipo y que alcanzó una tasa de localización de aproximadamente el 90 %.

La presentación no demuestra que China esté preparada para sustituir a ASML, la empresa neerlandesa que el artículo de origen describe como monopolista del sector. Según ese artículo, la producción en masa no se espera hasta dentro de 3–5 años, un plazo que podría ser optimista. También señala que ASML afronta restricciones comerciales de Estados Unidos.

El artículo de origen no aporta cifras sobre el rendimiento técnico del prototipo ni pruebas de que esté listo para el uso comercial. Por tanto, el anuncio supone un avance en el desarrollo, mientras que el calendario y sus implicaciones siguen siendo inciertos.