Den kinesiska teknikstartuppen Langdao Silex har visat en prototyp till en EUV-ljuskälla på den 26:e China International Industry Fair i Shanghai. Företaget kallar enheten FlintNano LPP-OXXO.
EUV-ljuskällor är en central komponent i extrem ultraviolett litografi. Langdao Silex uppger att företaget har utvecklat de flesta kärnkomponenterna i prototypen på egen hand och nått en lokaliseringsgrad på cirka 90 %.
Presentation visar inte att Kina är redo att ersätta ASML, det nederländska företag som källartikeln beskriver som marknadsmonopolist. Enligt artikeln väntas massproduktion inte på ytterligare 3–5 år, och tidsuppskattningen kan vara optimistisk. Artikeln nämner också att ASML påverkas av amerikanska handelsrestriktioner.
Källartikeln anger inga tekniska prestandasiffror för prototypen och ger inga belägg för att den är redo för kommersiell användning. Tillkännagivandet markerar därför ett utvecklingssteg, medan tidsplanen och dess följder fortfarande är osäkra.
Kommentarer
0Inga kommentarer ännu. Skriv den första.