Kina väntas inte kunna mäta sig med den nederländska chipputrustningstillverkaren ASML:s maskiner för extrem ultraviolett (EUV) litografi förrän om ytterligare 10 år, enligt en rapport från investmentbanken UBS.
EUV-litografiskannrar är en viktig del av tillverkningen av avancerade chip. Utan dem blir det mer komplicerat och kostsamt att tillverka de senaste chipen. Amerikanska begränsningar hindrar Kinas stora chiptillverkare från att köpa ASML:s EUV-maskiner.
UBS uppger att Kinas teknik för EUV-chiptillverkning liknar ASML:s nivå från 2004. Enligt rapporten kan Kina minska gapet inom äldre nedsänkningsbaserad djup ultraviolett (DUV) litografi betydligt tidigare än inom EUV-teknik.
Kommentarer
0Inga kommentarer ännu. Skriv den första.