Intel-chefen Chris Auth sade att företaget ligger ”bara några procent” efter TSMC i prestanda, men att det kommer att ta längre tid att komma ikapp i skala. Wccftech rapporterade uttalandena.
Auth, Intels vice vd och chef för tillverkningsutveckling och kundengagemang, gjorde uttalandena i podden Dwarkesh. Han hävdade att Intel är bättre lämpat än TSMC att använda litografimaskiner med High NA EUV.
Auth sade att Intels användning av strömförsörjning från baksidan gör det möjligt att trycka kretsar direkt med High NA EUV. Källan ger inga ytterligare tekniska detaljer och anger inte hur stor prestandaskillnaden är.
Intels teknikchef Pushkar Ranade medverkade också i podden. Enligt rapporten sade Ranade att det handlade om skala, inte teknik, att komma ikapp TSMC. Artikeln anger ingen tidsplan för att minska skillnaden.
Kommentarer
0Inga kommentarer ännu. Skriv den första.