Chris Auth, directivo de fabricación de Intel, afirmó que la empresa está “solo unos pocos puntos porcentuales” por detrás de TSMC en rendimiento, mientras que alcanzar su escala llevará más tiempo. Wccftech informó de estas declaraciones.
Auth, vicepresidente y director general de desarrollo de fabricación y relación con clientes de Intel, hizo estos comentarios en el pódcast Dwarkesh. Sostuvo que Intel está mejor preparada que TSMC para utilizar máquinas de litografía High NA EUV.
Auth dijo que el uso de suministro eléctrico por la parte trasera de Intel le permite imprimir circuitos directamente con High NA EUV. La fuente no ofrece más detalles técnicos ni cuantifica la diferencia de rendimiento.
Pushkar Ranade, director de tecnología de Intel, también participó en el pódcast. Según el reportaje, Ranade dijo que alcanzar a TSMC era una cuestión de escala, no de tecnología. El artículo no fija un calendario para cerrar esa brecha.
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