Intel 2–4 år före Samsung och TSMC inom high-NA EUV efter 1 miljonte testwafern
Intel har producerat sin 1 miljonte testwafer för litografi med high-NA EUV, enligt Wccftech. Milstolpen beskrivs som ett tecken på att Intel ligger 2–4 år före Samsung och TSMC inom tekniken. Rapporten lyfter också…